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华裔科学家获美科学界与技术界最高奖 布什颁奖
发表时间:2007/7/30 10:09:11    浏览量:1071次    作者:    来源:

  美国总统乔治·W·布什7月27日在白宫为过去两年间在科技领域取得突破性进展的科学家颁发美国国家科学奖章与国家技术奖章。美籍华裔著名科学家卓以和是30位获奖者之一。

   当天获奖科学家的研究成果涉及天体物理学、激光技术、气候学和组织工程等各个领域。

   国家技术奖章的获奖者中包括美籍华裔著名材料科学家卓以和(Alfred Y. Cho),他因对分子束外延技术和高级电子光子设备发展所做的贡献而获奖。卓以和1937年生于北京,1955年赴美,现任美国朗讯科技公司贝尔实验室半导体研究室主任。

  卓以和是国际公认的分子束外延与人工微结构材料生长的奠基人与开拓者。他是美国科学院院士和中国科学院外籍院士,被称为“分子束外延技术之父”。他用研制的新材料最先研究成功10多种极为重要、性能优异的新型微波高速电子器件和光电子器件。

  “我们的研究者有的研究冰河,有的分离出活动基因的脱氧核糖核酸(DNA),有的开拓分布反馈型激光器新领域,”布什在颁发奖章前发言说,“也就是说,这里有不少聪明人。”

  布什当天颁发的国家科学奖章和国家技术奖章是美国科学界与技术界的最高荣誉,由美国国会设立。科学奖章设立于1959年,由美国全国科学基金会负责评选;技术奖章设立于1980年,由美国商务部负责评选。卓以和1993年曾获国家科学奖章。

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